產品介紹

蒸發離化源又名真空等離子體加速器或圓形陰極弧源、電弧源、小弧源。本蒸發源具有鍍料蒸發率高、工作可靠、壽命長，能通過使用不同的鍍料產生多種鍍料蒸汽等特點。采用純銅陰極座，導電和冷卻效果好;一體成型的進口聚四氟乙烯材料絕緣，有效防止跑弧，降低燒蝕法蘭等情況的出現;304不銹鋼法蘭，堅固耐用，電磁線圈引弧和氣缸引弧、直冷間冷、水冷單進單出、雙進雙出、法蘭水冷等等均可自由定制。根據不同機型，配置不同大小的欽鐵硼永磁鐵。結構合理、用料考究、安裝方便、電弧均勻、故障率低，是陰極電弧離子鍍的首選離化源。
陰極電弧離子鍍膜技術的金屬離化率高，容易反應沉積TiN等化合物膜
層，在沉積裝飾涂層和工模具硬質涂層方面發揮了重要作用。工作過程是在靶(陰極）的表面形成能量非常集中并作無規則運動的電弧陰極“斑”，使鍍料(陰極）蒸發離化。生成高密度靶材離子，當與反應氣體反應后，在負偏壓作用下便會加速射向工件，實現反應離子鍍工藝。
同時可以增設電磁場加速弧斑旋轉速度，減少金屬熔池、細化電弧，使膜
層致密。電磁場可以增設單線圈同軸電磁場和雙線圈電磁場。也可以采用電磁偏轉磁過濾系統，分為一次90°偏轉和二次90°偏轉以及掃描電弧等方式，以獲得更純凈的離子流沉積,得到更高純度的薄膜。